00 DSpace/Manakin Repository

Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Shevchenko, D.
URI: http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522
Дата: 2024-04-25

Короткий опис(реферат):

EN: Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Показати повний опис матеріалу

Долучені файли

Icon
Name: Shevchenko.pdf
Розмір: 137.1Kb
Формат: PDF
Переглянути

Даний матеріал зустрічається у наступних фондах