00 DSpace/Manakin Repository

Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Показати скорочений опис матеріалу

dc.contributor.author Shevchenko, D.
dc.contributor.other V. Volchuk (Scientific supervisor)
dc.contributor.other N. Shashkina (Language consultant)
dc.date.accessioned 2024-08-23T09:32:40Z
dc.date.available 2024-08-23T09:32:40Z
dc.date.issued 2024-04-25
dc.identifier.citation Shevchenko D. Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition / D. Shevchenko; Scientific supervisor : V. Volchuk, Language consultant : N. Shashkina // Матеріали V науково-практичної конференції студентів, аспірантів і молодих вчених, (25−26 квітня 2024, Дніпро) : зб. тез. - Дніпро : ПДАБА, 2024. – С. 241-242
dc.identifier.uri http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522
dc.description.abstract EN: Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Придніпровська державна академія будівництва та архітектури uk_UA
dc.subject development of optimal technological parameters uk_UA
dc.subject plasma coating deposition uk_UA
dc.title Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition uk_UA
dc.type Article uk_UA


Долучені файли

Даний матеріал зустрічається у наступних фондах

Показати скорочений опис матеріалу