00 DSpace/Manakin Repository

Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Показати скорочений опис матеріалу

dc.contributor.author Shevchenko, D.
dc.contributor.other Volchuk, V. (scientific supervisor)
dc.contributor.other Shashkina, N. (language consultant)
dc.date.accessioned 2025-05-23T06:54:54Z
dc.date.available 2025-05-23T06:54:54Z
dc.date.issued 2024-04-04
dc.identifier.citation Shevchenko D. Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition / D. Shevchenko ; scientific supervisor V. Volchuk ; language consultant N. Shashkina // Наука і техніка: перспективи XXI ст.: матеріали II дист. наук.-практ. конференції студ. і молодих вчених, (Дніпро, 4 квітня 2024). – Дніпро: ПДАБА, 2024. – С. 84. uk_UA
dc.identifier.uri http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/15434
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Придніпровська державна академія будівництва та архітектури uk_UA
dc.subject plasma coating uk_UA
dc.title Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition uk_UA
dc.type Article uk_UA


Долучені файли

Icon
Name: Shevchenko.pdf
Розмір: 513.0Kb
Формат: PDF
Переглянути

Даний матеріал зустрічається у наступних фондах

Показати скорочений опис матеріалу